真空加熱炉・乾燥炉 チャンバー PH225 最高温度 700℃
主な用途
真空加熱プロセス 真空ベーク、真空乾燥機、VCDとしてご使用いただけます。カラータッチパネル式温度コントローラ/PCC118-HVMJにより、簡単な操作にて、真空加熱プロセスをご利用いただけます。
MSAファクトリー 加熱ノウハウ
ヒータ設計、断熱、熱輻射など様々なノウハウを結集しております。またソフトウェアも高機能仕様
シンプルな本体+豊富なオプションにより様々なアプリケーションに対応
シンプルな本体+コントローラにより、高温・真空プロセスの構築が可能です。また、豊富なオプション、カスタム対応により、御社に最適な機種構築が可能です。
主なオプション/全てカスタマイズ可能
ワーク対応:プロキシミティピン、位置決めピン、リフター機能
ガスフロー:O2、H2(混合ガス)、その他(N2ガスは標準仕様)
計測機能:O2濃度系、露点計、ピラニー真空ゲージは標準仕様
観察窓:耐熱ガラス、石英ガラス (広開口タイプは、石英ガラスのみ)
長時間・高温運転:水冷却ユニット
揮発物対応:冷却トラップユニット、真空フレキチューブヒータ追加
圧力・流量制御:マスフロー流量制御、コンダクタンスバルブ真空圧力制御、スロー排気、スローベンド
ワーク搬送:ウエハ搬送ユニット
副室:ロードロック式ウエハ搬送ユニット
*オプションリストはこちら PH224_225_OP1 *その他のオプションはお問合せください。
*PH225 カタログはこちら PH225カタログ (英語版 PH225_EN)
高性能
ホットプレート加熱ですので、均一な加熱が可能です。真空乾燥機の中では、ワークの処理時間も短時間で、従来プロセスとの時間をぜひ、比較してください。
長時間加熱/超高温真空加熱
1時間を超える加熱工程、超高温(800℃)対応。ワークの長時間対応として、水冷機能付き(オプション)、チラーおよび循環冷却水が別途必要となります。
安全性
過昇温監視機能、非常停止機能、漏電検知機能、負荷断線機能などを盛り込んだ安全機能がコントローラに装備されています。
機種一覧
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