簡易型真空ホットプレートチャンバー　PH221　最高温度　２00℃

主な用途

真空加熱用実験器具として、また、真空ベーク、真空乾燥炉としてご使用いただけます。安価に真空加熱プロセスを構築いただけます。

MSAファクトリー　加熱ノウハウ

素材（超耐熱プレート、熱歪対策）ヒータ設計、断熱、熱輻射など様々なノウハウを結集しております。

シンプルな本体＋豊富なオプションにより様々なアプリケーションに対応

PH221シリーズは最高温度200℃まで対応可能です。さらに高温が必要な際は特殊仕様で、最高温度800℃まで対応可能なPH222を推奨いたします。

シンプルな構成により、高温・真空プロセスの構築が可能です。また、豊富なオプション、カスタム対応により、御社に最適な機種構築が可能です。

高性能

ホットプレート加熱ですので、均一な加熱が可能です。ワークの処理時間も短時間で、従来プロセスとの時間をぜひ、比較してください。

安全性

オプションにて、過昇温監視機能、漏電検知機能、負荷断線機能などを盛り込んだ安全機能をコントローラ追加することも可能です。

拡張性

豊富なオプションを用意しております。こちらの選定により、目的に合致した機器としての構成が可能です。詳細は下記、機種一覧のオプション欄をご覧ください。

有機溶剤ガス、シロキサン類アウトガス非対応品

PH221につきましては、シリコンヒータ、Oリング等より、若干のアウトガス発生がございます。真空環境時でのガス発生を抑えた機種　PH222-Fもシリーズとして取り揃えてございます。