真空加熱炉・乾燥炉 チャンバー PH225 最高温度 700℃
主な用途
真空加熱プロセス 真空ベーク、真空乾燥炉、VCDとしてご使用いただけます。カラータッチパネル式温度コントローラ/PCC118-HVMJにより、簡単な操作にて、真空加熱プロセスをご利用いただけます。
MSAファクトリー 加熱ノウハウ
ヒータ設計、断熱、熱輻射など様々なノウハウを結集しております。またソフトウェアも高機能仕様
シンプルな本体+豊富なオプションにより様々なアプリケーションに対応
シンプルな本体+コントローラにより、300万円代にて、高温・真空プロセスの構築が可能です。また、豊富なオプション、カスタム対応により、御社に最適な機種構築が可能です。
*オプションリストはこちら PH224_225_OP1 *その他のオプションはお問合せください。
*PH225 カタログはこちら PH225カタログ (英語版 PH225_EN)
高性能
ホットプレート加熱ですので、均一な加熱が可能です。ワークの処理時間も短時間で、従来プロセスとの時間をぜひ、比較してください。
長時間加熱/超高温真空加熱
1時間を超える加熱工程、超高温(800℃)対応。ワークの長時間対応として、水冷機能付き(オプション)、チラーおよび循環冷却水が別途必要となります。
安全性
過昇温監視機能、非常停止機能、漏電検知機能、負荷断線機能などを盛り込んだ安全機能がコントローラに装備されています。
機種一覧
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