1. デジタルサーボプレス HE-DDシリーズ

  2. 撹拌機/SKシリーズ

  3. 顕微鏡ヒートステージ/ PNシリーズ

  4. ウエハホットチャック/PH201シリーズ

  5. 真空チャンバー特注対応品 

  6. 小型温度チャンバー 小型ペルチェタイプ PGシリーズ

  7. リフター・カバー付きホットチャック/加熱炉 PA-LIFシリーズ

  8. セラミック加工品

  9. 銅合金加工品

  10. 機械加工/マシニング、フライス、旋盤加工

  11. ホモジナイザー・分散用ステージ/ASシリーズ

  12. 空気温調ユニット/PFシリーズ

真空環境 遠赤外線ホットプレート
PH220 300C

真空環境 遠赤外線ホットプレート PH220-300C 最高温度 200℃

主な用途

真空加熱用 真空環境用 遠赤外線による加熱ホットプレート ワークを非接触で均一な加熱

MSAファクトリー 加熱ノウハウ

素材(超耐熱プレート、熱歪対策)ヒータ設計、断熱、熱輻射など様々なノウハウを結集しております。

セラミックコーティング ホットプレート

セラミックコーティング膜による赤外線加熱で、最高温度200℃まで対応可能です。非接触なので、ワークへのコンタミ、ワーク間のコンタミを低減することが可能です。

大サイズ・カスタムサイズ対応

サイズはカスタマイズ可能です。最大サイズは、□300mm 真空環境用としては大型のワークを均一加熱いたします

ケーブル・フィードスルー

チャンバー内へのケーブル接続は、各種真空フランジ(VF、VG、KF等)に対応したケーブル・フィードスルーをご提供いたします。

 

機種一覧

 

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型番
PH220-300C
最高温度
200℃
プレートサイズ
最大300×300mm
プレート材質
アルミ合金、セラミックコーティング処理
電源電圧
AC200V
特長
セラミックコーティングによる遠赤外線加熱
適合温度コントローラ
PCC107-FL、PCC100G等
コントローラ
オプション
プロキシミティーピン、取付用金具、フィードスルー、フランジ等

 

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